中华人民共和国专利法
(1984年3月12日第六届全国人民代表大会常务委员会第四次会议通过 根据1992年9月4日第七届全国人民代表大会常务委员会第二十七次会议《关于修改〈中华人民共和国专利法〉的决定》第一次修正 根据2000年8月25日第九届全国人民代表大会常务委员会第十七次会议《关于修改〈中华人民共和国专利法〉的决定》第二次修正 根据2008年12月27日第十一届全国人民代表大会常务委员会第六次会议《关于修改〈中华人民共和国专利法〉的决定》第三次修正)
目 录
第一章 总则
第二章 授予专利权的条件
第三章 专利的申请
第四章 专利申请的审查和批准
第五章 专利权的期限、终止和无效
第六章 专利实施的强制许可
第七章 专利权的保护
第八章 附则
第一章 总 则
中华人民共和国科学技术进步法
中华人民共和国科学技术进步法
(1993年7月2日第八届全国人民代表大会常务委员会第二次会议通过
2007年12月29日第十届全国人民代表大会常务委员会第三十一次会议修订)
目 录
第一章 总 则
第二章 科学研究、技术开发与科学技术应用
第三章 企业技术进步
第四章 科学技术研究开发机构
第五章 科学技术人员
第六章 保障措施
第七章 法律责任
第八章 附 则
第一章 总 则
中医药国际科技合作计划
7月4日,科技部会同卫生部、国家中医药管理局发布了《中医药国际科技合作规划纲要》,正式启动“中医药国际科技合作计划”,现将计划全文公布如下。
中医药是中华民族数千年与疾病进行斗争过程中积累的宝贵人类财富,应该能为人类卫生健康事业发挥重大作用。为提高以中医药为代表的世界传统医药服务人类健康的能力,特制定“中医药国际科技合作计划”(以下简称“计划”)。
一、背景
集成电路布图设计保护条例
2001年3月28日国务院第36次常务会议通过,2001年4月19日公布
第一章 总则
第一条 为了保护集成电路布图设计专有权,鼓励集成电路技术的创新,促进科学技术的发展,制定本条例。
第二条 本条例下列用语的含义:
(一)集成电路,是指半导体集成电路,即以半导体材料为基片,将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上,以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品;
(二)集成电路布图设计(以下简称布图设计),是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置,或者为制造集成电路而准备的上述三维配置;
(三)布图设计权利人,是指依照本条例的规定,对布图设计享有专有权的自然人、法人或者其他组织;
(四)复制,是指重复制作布图设计或者含有该布图设计的集成电路的行为;